PLASMA WAND 是一款可以握在手中操作的等離子體發(fā)生設備，無需外部氣體，只需接通電源即可工作運行。PlasmaWand是一款的小型設備，適用于研究所，大學的實驗室，或者任何需要小型等離子設備的場合。

      PLASMA WAND非常適合大樣品焊接或粘合前的表面清洗和表面活化處理。Plasma Wand是一體化等離子裝置，雖然簡單卻可以提供多種功能的解決方案，同其他等離子系統(tǒng)一樣，提供一致的和可重復的結果。

 

PLASMA WAND噴嘴包括：

1.      標準噴嘴：用于清洗塑料、橡膠和絕緣材料。

2.      近距離噴嘴：用于清洗金屬和導電材料

3.      多組分氣體噴嘴：使用氬氣或氦氣作為輸入氣體。

 

       PE公司成立于1980年，致力于提供電子行業(yè)用的等離子設備及相關服務。通過幾十年的發(fā)展，公司發(fā)展成為提供等離子設備方面的，可為客戶提供的產品和解決方案，先后眾多企業(yè)提供等離子處理設備：美國宇航局NASA, 美國波音Boeing，的電子保安系統(tǒng)產品制造商美國霍尼韋爾Honeywell，美國摩托羅拉Moto, 德國拜耳Bayer，世界飛機的企業(yè)美國洛克希德馬丁Lockheed-Martin等等。

   

      Plasma Etch擁有多項發(fā)明，在開發(fā)和制造等離子設備方面有許多突破性創(chuàng)新，公司擁有等離子體技術和制造技術領域里的技術。這些技術的產品線是公司獨有的，生產的等離子設備是業(yè)界的集清洗速度、完整均勻性、安全可靠性為一體的等離子處理設備。

 

標   準   配   置
重量	6盎司/170克
發(fā)生器	30w集成電源
氣體輸入	空氣/氬氣/氦氣
等離子體溫度	< 50℃
工作距離	5~10mm
處理寬度	5~20mm