凈化電子廠廠房潔凈檢測(cè) 檢測(cè)報(bào)告--安衡檢測(cè)

電子凈化廠注意要點(diǎn)：防止灰塵、防靜電、防止負(fù)壓；集成電路生產(chǎn)（分為光掩膜、前道工序、后道工序），顯示器生產(chǎn)（分為L(zhǎng)CD，PDP,TFT,VFD,顯像管），硅材料 生產(chǎn)（單晶硅、多晶硅），光纖生產(chǎn)，制卡業(yè)，表面貼裝（SMT），分離器件生產(chǎn)（功率一、二、三級(jí)管，電容、電阻），整機(jī)組裝生產(chǎn)（機(jī)頂盒、數(shù)字投影儀、電子數(shù)碼相機(jī)），自控元器件生產(chǎn)（傳感器、執(zhí)行機(jī)構(gòu)）等。微電子工業(yè)是當(dāng)前對(duì)潔凈室要求較高工業(yè)潔凈業(yè)-如現(xiàn)代工業(yè)中的液晶、光纖等的生產(chǎn)，同樣均有潔凈度的要求。

噪聲：一般情況下可只檢測(cè)：A聲級(jí)的噪聲，必要時(shí)可采用帶倍頻程分析儀的聲級(jí)儀，按中心頻率63、125、250、500、1000、2000、4000、8000Hz的倍頻程檢測(cè)，測(cè)點(diǎn)附近1m內(nèi)不應(yīng)有反射物。聲級(jí)計(jì)的小刻度不宜低于0.2dB（A）。測(cè)點(diǎn)距地面高度1.1m。面積在15m2以下的潔凈室，可只測(cè)室中心1點(diǎn)，15m2以上的潔凈室除中心1點(diǎn)外，應(yīng)再測(cè)對(duì)角4點(diǎn)，距側(cè)墻各1m，測(cè)點(diǎn)朝向各角。當(dāng)為混合流潔凈室時(shí)，應(yīng)分別測(cè)定單向流區(qū)域、非單向流區(qū)域的噪聲。有條件是，宜測(cè)定空調(diào)凈化系統(tǒng)停止運(yùn)行后的本底噪聲，室內(nèi)噪聲與本底噪聲相差小于10dB（A）時(shí)，應(yīng)對(duì)測(cè)點(diǎn)值進(jìn)行修正：相差（6~9）dB（A）時(shí)減1dB（A），相差（4~5）dB(A)時(shí)減2dB(A)，相差3dB(A)時(shí)減3dB(A)，相差小于3dB(A)時(shí)測(cè)定值無效。

電子廠廠房潔凈檢測(cè)  由于電子產(chǎn)品在制造、生產(chǎn)過程中對(duì)室內(nèi)空氣環(huán)境和品質(zhì)的要求極為嚴(yán)格，主要以控制微粒和浮塵為主要對(duì)象，同時(shí)還對(duì)其環(huán)境的溫濕度、新鮮空氣量、噪聲等作出了嚴(yán)格的規(guī)定。 可根據(jù)電子廠房潔凈標(biāo)準(zhǔn)對(duì)電子工業(yè)潔凈廠房進(jìn)行相關(guān)參數(shù)的監(jiān)測(cè)，為廠房的順利交付、生產(chǎn)工藝的改進(jìn)及產(chǎn)品的質(zhì)量保證提供可靠的數(shù)據(jù)支持。

因?yàn)閮艋こ痰臋z測(cè)主要關(guān)注兩種粒徑，即0.5um和5um。等速采樣對(duì)≤0.5um的顆粒影響不大。如果采樣空氣用于計(jì)算大于或等于 0.5um 的粒徑濃度，如果這些粒子不受等速條件的影響，則計(jì)算結(jié)果不受影響。因此潔凈室區(qū)域非等速采樣只對(duì)大于等于0.5um的顆粒有意義。

靜態(tài)：是指潔凈室或潔凈區(qū)建成且設(shè)備就位,但沒有人員活動(dòng)、沒有設(shè)備運(yùn)行、沒有進(jìn)行生產(chǎn)操作時(shí)的潔凈室環(huán)境狀態(tài)。動(dòng)態(tài)：潔凈室或潔凈區(qū)設(shè)施按議定方式運(yùn)行,且有規(guī)定數(shù)量的人員按議定方式活動(dòng)、設(shè)備運(yùn)行和生產(chǎn)操作時(shí)的潔凈室環(huán)境狀態(tài)。）

電子廠房潔凈室空氣潔凈度檢測(cè)項(xiàng)目：凡潔凈室檢測(cè)中所用的一切儀器設(shè)備必須按規(guī)定進(jìn)行鑒定、校正或。潔凈室空氣潔凈度檢測(cè)測(cè)定之前必須對(duì)系統(tǒng)、潔凈室、機(jī)房等處進(jìn)行全面清掃,在清掃和系統(tǒng)調(diào)整后必須連續(xù)運(yùn)行一段時(shí)間,然后進(jìn)行檢漏等項(xiàng)目的測(cè)定。

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